- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
桌面型小型蒸發鍍膜儀，可提供*大150A的鍍膜電流，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經過除氣處理，配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境。真空腔體采用上掀蓋開啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應觀察窗，用于觀察鍍膜過程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染。
技術參數：
|
產品名稱 |
小型高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 |
|
|
產品型號 |
CY-EVZ273-II-HH-SS |
|
|
樣品臺 |
尺寸 |
φ100mm |
|
轉速 |
1-20rpm可調 |
|
|
至蒸發源間距 |
60mm~100mm可調 |
|
|
蒸發系統 |
蒸發源 |
鎢絲籃 |
|
熱電偶 |
S型熱電偶 |
|
|
工作電流 |
≤150A |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ273mm×280mm |
|
觀察窗口 |
石英觀察窗 φ80 |
|
|
開啟方式 |
上開啟式 |
|
|
腔體材料 |
不銹鋼 |
|
|
真空系統 |
產品型號 |
CY-GZK103-A |
|
抽氣接口 |
KF40 |
|
|
分子泵 |
大阪600l/s |
|
|
排氣接口 |
KF16 |
|
|
前極泵 |
旋片泵 |
|
|
真空測量 |
復合真空計 |
|
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|
|
抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-4Pa |
|
|
其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機功率 |
2kw |
|
|
整機尺寸 |
600mm× 300mm× 470mm |
|
|
整機重量 |
70kg |
|
